科技的春天来了?国产DUV光刻机背后的希望与冷静分析
⭐发布日期:2024年09月24日 | 来源:飞扬萌宠
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事件概述部分
9月9日,中国科技界迎来了一次令人振奋的时刻——国产DUV光刻机的正式亮相。这一消息像秋日里的第一缕阳光,带来了温暖和希望。当天,工信部发布了《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》,目录2.1.5氟化氪光刻机、2.1.6氟化氩光刻机的提及,让国人对未来充满了期待。
主体部分:这一技术突破展示了中国在半导体领域的自主创新能力,是对我国落后技术的一剂强心针,也希望我们不要盲目乐观
目录2.1.6氟化氩光刻机,精度是65纳米经过多重曝光后精度可以达到8纳米以下,过去,这一领域几乎被外国企业垄断,中国企业一直在黑夜中摸索,而现在,国产DUV光刻机的问世,如同划破了黑暗的晨曦,让我们看到了前方的光明。国产化意味着我们不再完全依赖外部技术,从而减少了潜在的风险。
尽管这次取得了光刻机国产化的一些成果,但实际上这只是我们在这一领域在奋起直追,03年阿斯麦就推出了第一代65纳米DUV光刻机,09年的iPhone 3G就已经使用了这一技术。国产光刻机这次的技术突破还是与目前最先进的3纳米光刻机相比,还是有一定的差距。不过,这样的挑战恰恰也是推动我们不断前行的动力,就像登山途中遇到的险峻山峰,正是我们不断进步的催化剂。
观点:
这两款国产光刻机的问世,让国人对中国科技的未来充满期待,但也要我们不要盲目乐观需要冷静思考,脚踏实地,国产科技才能走得更远技术标准的提升和国际市场的挑战虽多,但正是这些挑战,推动了科技的进步和国家的繁荣。
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单阳光
5秒前:1.
IP:23.26.9.*
Lahaie
8秒前:不过,这样的挑战恰恰也是推动我们不断前行的动力,就像登山途中遇到的险峻山峰,正是我们不断进步的催化剂。
IP:57.31.9.*
李卫东
7秒前:6氟化氩光刻机,精度是65纳米经过多重曝光后精度可以达到8纳米以下,过去,这一领域几乎被外国企业垄断,中国企业一直在黑夜中摸索,而现在,国产DUV光刻机的问世,如同划破了黑暗的晨曦,让我们看到了前方的光明。
IP:53.67.7.*